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Integrated Transformation
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NPS MODIFICATION
NPS MODIFICATION
模块化安装,透过N2或XCDA等气体灌入FOUP并透过流量调节增加Wafer Q time。可依个厂牌Load Port客制化。
通过Purge可去除一定的污染气体并降低湿度
即便仍有污染源在内,N2等气体仍能将FOUP内部维持极低湿度达数小时之久
湿度越低Wafer越干净
E84 MODIFICATION
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